- TDR/VNA測定装置
5Gのアプリケーションに使用するデバイスおよび
基板の特性評価が可能。
次世代のニーズに対応した高周波特性測定システム。
E2V6151 / E3V6151 / E4V6151
VNA測定装置
E2V6151（2プローブ）
E3V6151（3プローブ）
E4V6151（4プローブ）
VNA（ベクトル・ネットワーク・アナライザ）を搭載可能。自動で高周波特性を測定するシステムです。Sパラメータの測定などを行うことができ、5G向けのアプリケーションに使用するデバイスおよび基板の特性評価も可能です。また、データセンター用高速伝送プリント基板の伝送損失測定や、バックドリルの不具合発見など様々な用途に対応しています。プローブが180°回転し、プローブ同士の接近が可能で、アライメントカメラでのプロ―ビング箇所の直視、各種VNA測定器・TDR測定器と接続も可能です。また、4プローブ仕様では基板の表裏も測定することができます。
トレースの両端にプローブがコンタクトしてSパラメータなどの測定が可能です
フォームファクター社のACPシリーズなどのプローブを各アームに1個装備することで、トレースの両端にコンタクトすることができます。
高周波プローブユニット
180°回転機構
プローブ同士の接近を可能とした回転機構を備えた高周波プローブユニットは、様々なパッド配置での検査を可能にします。高周波プローブは、フォームファクター社のACPシリーズをはじめ、様々な高周波プローブの取付が可能です。
スペック
| E2V6151 （2プローブ） |
E3V6151 （3プローブ） |
E4V6151 （4プローブ） |
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|---|---|---|---|
| 最大検査エリア | 570 x 460 mm |
570 x 460 mm |
570 x 460 mm |
| クランプ方式 | 自動クランプ |
自動クランプ |
自動クランプ |
| プローブ回転角 | 180° |
180° |
180° |
| 繰返し精度X–Y | ±4 µm |
±4 µm |
±4 µm |
| 繰返し精度 θ | 1° |
1° |
1° |
| エアー仕様：圧力 | 0.5 MPa |
0.5 MPa |
0.5 MPa |
| エアー仕様：容量 | 3.5 ℓ/min. |
3.5 ℓ/min. |
3.5 ℓ/min. |
| 電源 単相AC200–240 V 50/60 Hz |
10 A |
12 A |
15 A |
| 重量 | 1500 kg |
1510 kg |
1520 kg |
| 外形図（mm） |
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| 必要システム | 制御用PC＆モニター *1 |
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| 動作環境 | 21–24℃、30–70%（相対湿度） * 結露、塵、埃、振動のないこと ※腐食性のガスがある環境では使用しないでください 大気圧露点：−14℃以下（0.7 MPa時、圧力下露点15℃以下） オイルミスト濃度：1 mg/㎥ (ANR) 以下 |
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対応測定器 *2
| キーサイト・テクノロジー | E5063A (500MHz/1.5GHz/3GHz/4.5GHz/6.5GHz/8.5GHz/14GHz/18GHz)
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|---|---|
| ローデ・シュワルツ | ZNA40 (40GHz)
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| アンリツ | MS46524B (8.5GHz/20GHz/43.5GHz) |
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